型號：XDT-4150S
化合物半導體用曝光裝置
XDT-4150S 化合物半導體用曝光裝置，把涂有光刻膠的基板與掩膜重疊，光刻圖形的曝光裝置。為了實現多層曝光時的自動對位，裝配有顯微鏡和X?Y?θ對位臺。自動進行基板的供給、對位、曝光、排出。
產品特色
? 采用獨自的平行調整機構,能夠高精度地設定掩膜與Wafer間的近接間隙。
? 利用獨自的高速圖像處理技術,實現高精度的對位。
? 利用圖像處理技術,使預對位可對應薄型基板或翹曲基板及水晶等易碎Wafer(選購項)。
?利用獨自的接觸壓力精密控制機構,能夠使Wafer與掩膜高精度地接觸。
?通過Wafer的背面真空吸著方式,實現高速度和高精度以及穩定的自動搬送。
外形尺寸
