型號：XD-MD8
轉臺雙面光刻機

主要用于中小規模集成電路、半導體元器件、光電子器件、聲表面波器件、薄膜電路的研制和生產。

工作方式：本機采用板—板對準雙面同時曝光方式，亦可用于單面曝光。

主要構成：主要由雙工位高精度對準旋轉工作臺，Z軸升降機構，2CCD實時對準檢測，2臺多點UVLED光源蠅眼式曝光頭，真空吸片機構等組成。

 

產品特色

  適用于8寸以下，厚度5mm以下的各種基片(包括非圓形基片)的對準曝光。
?結構先進
  Z軸采用滾珠直進式導軌和可實現軟接觸的真空密著機構，真空吸版，防粘片機構。
?操作簡便
   雙工位高精度旋轉平臺，Z軸升降，吸片均采用自動方式；格板采用真空吸附，操作、調試、維護、修理都非常簡便。
?可靠性高
   采用進口電磁閥、按鈕、定時器；采用獨特的氣動系統、真空管路系統和精密的零件加工，使本機具有非常高的可靠性。
?分辨率高
   采用高均勻性的多點光源（蠅眼）曝光頭，非常理想的三點找平機構和穩定可靠的真空密著裝置，使本機的曝光分辨率大為提高。
?套刻精度高、速度快
   采用片真空吸附在下格板上，上格板與下格板高精度對準，人工放片時2CCD可確保對位精度數值在對準范圍內，升降采用無間隙滾珠直進導軌、氣動式Z軸升降機構，使本機片對版在分離接觸時漂移特小，對準精度高，對準速度快，從而提高了版的復用率和產品的成品率。
?可靠性高
   采用PLC控制、進口電磁閥和按鈕、獨特的氣動系統、真空管路系統和經過精密機械制造工藝加工的零件，使本機具有非常高的可靠性且操作、維護、維修簡便。

外形尺寸